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硅光电池结构

钜大LARGE  |  点击量:1075次  |  2019年08月15日  

硅光电池结构


硅光电池结构如图2.4—1所示。利用硅片制成PN结,在P型层上贴一栅形电极,N型层上镀背电极作为负极。电池表面有一层增透膜,以减少光的反射。由于多数载流子的扩散,在N型与P型层间形成阻挡层,有一由N型层指向P型层的电场阻止多数载流子的扩散,但是这个电场却能帮助少数载流子通过。当有光照射时,半导体内产生正负电子对,这样P型层中的电子扩散到PN结附近被电场拉向N型层,N型层中的空穴扩散到PN结附近被阻挡层拉向P区,因此正负电极间产生电流;如停止光照,则少数载流子没有来源,电流就会停止。硅光电池的光谱灵敏度最大值在可见光红光附近(800nm),截止波长为1100nm。图2.4—2表示硅光电池灵敏度的相对值。



图2.4—1硅光电池构造



图2.4—2硅光电池的光谱灵敏度


使用时注意,硅光电池质脆,不可用力按压。不要拉动电极引线,以免脱落。电池表面勿用手摸。如需清理表面,可用软毛刷或酒精棉,防止损伤增透膜。


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